打破国外垄断，中国掌握“制芯”关键技术

“PM2.5”est une petite particle familière qui est inférieure ou égale à 2.5微米de diamètre。我们的精神développé le matériau clé de ceette puce de fabrication, et si vous entrez la poussière PM1.0 dans le process, le matériau est un gaspillage, et il ne peut pas être appliqué sur la puce。”丹恩语简，唐依林一raconté un nouveau matériau de base，“超普”et“超均匀”-“photorésist avec résine phénolique linéaire”pour l’environmental rigoureux。Au début du mois de mai, le chef de file de la plus grande base de production de résine phénolique en Asie a déclaré Au科技日报qu'il a fallu 26 ans pour développer des résines électroniques haut de gamme pour la production de copeaux。Les experts estimesque matériel haut de gamme a brisé le monpoole des États-Unis et du Japon, et peut grandment accélérer le développement de la puce autonome chinoise。Le succès de«photorésiste avec une résine phénolique linéaire»a fait plusieurs enterprisprises photorésistantes(«chip»enterprisesenamont)维也纳au sommet des«matériaux de base»，科学与技术日报记者。

Après 26 ans d'exploration, le matériau clé de la“construction de base”一个结尾été aiguisant。唐依琳留言:«la raison pour laquelle nous pouvons développer et réussir est quel 'équipe科学研究une endurance sans passer à travers et ne jamais regarder en arrière。我们的祖国référence我们的祖国responsabilités。”